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硅片反射率儀是一種用于測(cè)量硅片表面反射特性的精密光學(xué)儀器，其工作原理基于光波與物質(zhì)相互作用的光學(xué)特性分析。該設(shè)備主要應(yīng)用于半導(dǎo)體制造工藝中，通過(guò)監(jiān)測(cè)硅片表面反射率變化來(lái)評(píng)估薄膜厚度、表面粗糙度及氧化層.. 全文

光學(xué)干涉測(cè)厚儀是一種利用光學(xué)干涉原理進(jìn)行薄膜材料厚度測(cè)量的高精度儀器。其測(cè)量范圍因具體型號(hào)和規(guī)格的不同而有所差異。一般來(lái)說(shuō)，光學(xué)干涉測(cè)厚儀的測(cè)量范圍可以從納米級(jí)別到微米級(jí)別，甚至更大。例如，有些設(shè)備能.. 全文

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聚合物厚度測(cè)試儀是一種專門(mén)用于測(cè)量材料厚度的精密儀器，尤其適用于各種聚合物材料的測(cè)量。這些材料包括但不限于塑料、橡膠和涂層等廣泛應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)和日常生活中的各類產(chǎn)品上的聚合物材質(zhì)部分。對(duì)于塑料制品而言.. 全文