OLED膜厚測試儀是使用哪種測量原理？

OLED膜厚測試儀主要采用光學干涉原理來測量OLED薄膜的厚度。具體來說，當光束照射到OLED薄膜表面時，一部分光會被反射，而另一部分光會穿透薄膜并在其內(nèi)部和底部產(chǎn)生多次反射和透射。這些反射和透射的光波之間會相互干涉，形成特定的干涉圖案。測試儀通過精確測量這些反射和透射光波的相位差，可以計算出OLED薄膜的厚度。相位差是指兩束光波在傳播過程中由于路徑不同而產(chǎn)生的相對延遲。當相位差為波長整數(shù)倍時，光波會發(fā)生建設性干涉，反射光強度增強；而當相位差為半波長時，光波會發(fā)生破壞性干涉，反射光強度減弱。通過觀察和測量這些干涉現(xiàn)象，可以推斷出薄膜的厚度信息。此外，OLED膜厚測試儀還可能采用其他技術來輔助測量，例如使用特定波長的光源以提高測量精度，或者采用非接觸式測量方式以避免對薄膜造成損傷。這些技術的應用進一步增強了測試儀的性能和可靠性。總之，OLED膜厚測試儀利用光學干涉原理，通過精確測量反射和透射光波的相位差，實現(xiàn)對OLED薄膜厚度的準確測量。這種測量方法具有高精度、非接觸式等優(yōu)點，在OLED顯示技術的研發(fā)和生產(chǎn)過程中發(fā)揮著重要作用。