硅片反射率儀工作原理
硅片反射率儀是一種用于測(cè)量硅片表面反射特性的精密光學(xué)儀器,其工作原理基于光波與物質(zhì)相互作用的光學(xué)特性分析。該設(shè)備主要應(yīng)用于半導(dǎo)體制造工藝中,通過(guò)監(jiān)測(cè)硅片表面反射率變化來(lái)評(píng)估薄膜厚度、表面粗糙度及氧化層.. 全文
透過(guò)率測(cè)試儀的使用方法有? 十萬(wàn)火急!
用透過(guò)率測(cè)試儀測(cè)定濁度,測(cè)定方法是:散射測(cè)渾法,以散射光的強(qiáng)度來(lái)計(jì)量濁液體中微粒的多少用1濁度的SiO2標(biāo)準(zhǔn)溶液(1000毫升中含0.001可硅藻土、漂白土或高嶺土的濁液)代替前面的蒸餾水所得的“H1.. 全文
熒光量子測(cè)試儀廠家怎么挑選?求解答
選擇熒光量子測(cè)試儀廠家合作建議可以就近選擇廠家。還方便去工廠進(jìn)行實(shí)地考察,觀察產(chǎn)品是否符合標(biāo)準(zhǔn)。 全文
微流控涂層膜厚儀如何校準(zhǔn)
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