

在石蠟應(yīng)用中,光澤度是衡量其表面視覺質(zhì)量的重要指標。天然石蠟CE減少劑(主要功能是降低石蠟中碳氫化合物排放,滿足環(huán)保要求)的加入,確實可能對最終產(chǎn)品的光澤度產(chǎn)生一定影響。這種影響通常是負面的,即可能導(dǎo)致光澤度下降,具體原因和程度取決于幾個關(guān)鍵因素:
1.干擾結(jié)晶過程(主要原因):
*石蠟的光澤度與其冷卻固化時形成的晶體結(jié)構(gòu)密切相關(guān)。晶體越細小、排列越均勻致密,形成的表面就越光滑,反射光線的能力越強,光澤度就越高。
*CE減少劑作為一種“外來”添加劑,其分子結(jié)構(gòu)可能與石蠟分子不完全相容。在石蠟熔融冷卻結(jié)晶過程中,這些添加劑分子可能吸附在蠟晶核或晶面上,阻礙晶體正常生長或改變其生長方向。
*這可能導(dǎo)致蠟晶體變得粗大、不規(guī)則或排列疏松。粗糙或疏松的表面會散射更多的入射光,使得鏡面反射光減少,視覺上表現(xiàn)為光澤度降低、表面發(fā)霧或發(fā)烏。
2.添加劑本身的物理性質(zhì):
*如果CE減少劑是固體粉末狀(雖然較少見),或者其與熔融石蠟的相容性不佳,即使經(jīng)過充分攪拌,也可能在冷卻后形成微小的顆?;驁F聚體分散在蠟基體中。這些微小顆粒會成為光的散射中心,同樣會降低光澤度。
*添加劑本身的折光指數(shù)如果與石蠟差異較大,也會增加光散射。
3.添加劑的濃度:
*一般來說,添加量越大,對結(jié)晶過程的干擾越顯著,對光澤度的負面影響通常也越大。低添加量時,影響可能微乎其微;而高添加量時,光澤度下降會比較明顯。
4.加工工藝:
*熔融溫度、冷卻速度、攪拌效率等工藝參數(shù)也會影響結(jié)晶過程。如果工藝控制不當(如冷卻過快或不均勻),可能會放大添加劑帶來的負面影響,導(dǎo)致更嚴重的失光。
如何減輕負面影響?
*選擇相容性好的添加劑:優(yōu)先選擇與石蠟分子結(jié)構(gòu)相似、相容性優(yōu)異的CE減少劑品種。
*優(yōu)化添加量:在滿足CE排放要求的前提下,盡量使用最低有效添加量。
*優(yōu)化加工工藝:確保添加劑在熔融蠟中充分分散均勻;控制適當?shù)睦鋮s速度(通常較慢的冷卻有利于形成更細密、規(guī)整的晶體),保證冷卻均勻性。
*表面處理:對于要求高光澤的應(yīng)用(如蠟燭、拋光劑),可在最終產(chǎn)品成型后進行拋光等表面處理來改善光澤。
總結(jié):
天然石蠟CE減少劑的主要目標是降低排放,但作為“外來者”,它通常會對石蠟的結(jié)晶過程產(chǎn)生干擾,導(dǎo)致形成的晶體結(jié)構(gòu)不如純蠟細膩均勻,這是造成光澤度下降的根本原因。影響程度取決于添加劑種類、添加量、基礎(chǔ)蠟性質(zhì)以及加工工藝。通過精心選擇添加劑、控制添加量和優(yōu)化工藝,可以在滿足環(huán)保要求的同時,最大限度地減輕對光澤度的負面影響,實現(xiàn)性能與環(huán)保的平衡。
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