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昆山法黎鑫金屬制品有限公司
主營：鋁制品加工及表面氧化處理
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當(dāng)金屬溶解時，處在鈍化條件下，鈍化，在表面生成緊密的、覆蓋性良好的固態(tài)物質(zhì)，鈍化工藝，這種物質(zhì)形成獨鈍化立的相，稱為鈍化膜或稱成相膜，此膜將金屬表面和溶液機械地隔離開，鈍化處理，使金屬的溶解速度大大降低，而呈鈍態(tài)。實驗證據(jù)是在某些鈍化的金屬表面上，可看到成相膜的存在，并能測其厚度和組成。
鈍化原理其鈍化的機理可用薄膜理論來解釋，即認為鈍化是由于金屬與氧化性物質(zhì)作用，作用時在金屬表面生成 一種非常薄的、致密的、覆蓋性能良好的、牢固地吸附在金屬表面上的鈍化膜。這層膜成獨立相存在，通常是氧化金屬的化合物。它起著把金屬與腐蝕介質(zhì)完全隔開的作用，防止金屬與腐蝕介質(zhì)接觸，從而使金屬基本停止溶解形成鈍態(tài)達到防腐蝕的作用。
在氧化層中大部分的電荷效應(yīng)是直接或間接地同熱氧化的工藝過程有關(guān)的。在800—1250~C的溫度范圍內(nèi)，用干氧、濕氧或水汽進行的熱氧化過程有三個持續(xù)的階段，首先是環(huán)境氣氛中的氧進入到已生成的氧化層中，然后氧通過二氧化硅向內(nèi)部擴散，當(dāng)它到達Si02-Si界面時就同硅發(fā)生反應(yīng)，形成新的二氧化硅。這樣不斷發(fā)生著氧的進入—擴散—反應(yīng)過程，使靠近界面的硅不斷轉(zhuǎn)化為二氧化硅，氧化層就以一定的速率向硅片內(nèi)部生長。
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